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澳譜特科技推出納米粒度及Zeta電位分析儀

 更新時(shí)間:2021-05-21 點(diǎn)擊量:3255

      澳譜特科技(上海)有限公司于近日隆重推出OPT-919SZ新一代納米粒度及Zeta電位分析儀,OPT-919SZ的面世,宣告擁有*自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)產(chǎn)Zeta電位分析儀在真正意義上開(kāi)始商用。
      澳譜特科技誕生于中國(guó)國(guó)家技術(shù)型產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)——上海紫竹高新區(qū),作為實(shí)驗(yàn)分析儀器行業(yè)的新星,澳譜特科技深諳技術(shù)和創(chuàng)新的重要性,在成立之初就積極吸納人才,組建了一支由理論基礎(chǔ)深厚和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)專家構(gòu)成的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。為了更好地立足于儀器行業(yè),滿足客戶的需求,澳譜特科技的專家團(tuán)隊(duì)堅(jiān)持開(kāi)拓與創(chuàng)新,深耕顆粒表征技術(shù)10余年,先后開(kāi)發(fā)出擁有*自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高速數(shù)字相關(guān)器,動(dòng)態(tài)圖像粒度粒形分析儀以及最新推出的納米粒度及Zeta電位分析儀。

OPT-919SZ納米粒度及Zeta電位分析儀

       納米顆粒的粒度對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量起著至關(guān)重要的作用,納米粒度測(cè)量是采用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)分析樣品顆粒散射光強(qiáng)隨時(shí)間的漲落規(guī)律,使用光子探測(cè)器采集散射光,通過(guò)相關(guān)器進(jìn)行自相關(guān)運(yùn)算得到相關(guān)函數(shù),再經(jīng)過(guò)數(shù)學(xué)反演獲得顆粒的粒徑信息。為提高顆粒粒度測(cè)量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,OPT-919SZ納米粒度及Zeta電位分析儀采用了大功率低波長(zhǎng)固體激光器和一體化光纖技術(shù)集成的光路,充分滿足了空間相干性的要求,極大地提高了散射光信號(hào)的信噪比;采用高靈敏度光子探測(cè)器,利用邊沿觸發(fā)模式對(duì)光子進(jìn)行計(jì)數(shù),能瞬間捕捉光子脈沖的變化;積十年之功自主研發(fā)成功的高速數(shù)字相關(guān)器,采用高低速通道搭配結(jié)構(gòu),有效解決了硬件資源與通道數(shù)量之間的矛盾,并保證了相關(guān)函數(shù)基線的穩(wěn)定性;引入數(shù)據(jù)篩選功能,大幅提高了粒度測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

蔗糖、溶菌酶、混合乳膠球顆粒樣品在25℃下的粒度測(cè)量結(jié)果

       Zeta電位是表征分散體系穩(wěn)定性的重要指標(biāo),澳譜特科技的Zeta電位分析是基于激光多普勒電泳光散射技術(shù),利用先進(jìn)的光纖技術(shù)集成發(fā)射光路和接收光路,使參考光和散射光信號(hào)的傳輸不受灰塵和外界雜散光的干擾,儀器的信噪比和抗干擾能力得到了有效提高;通過(guò)頻譜細(xì)化分析,準(zhǔn)確獲得散射光的頻移;基于雙電層理論模型獲得準(zhǔn)確的顆粒半徑與雙電層厚度,利用最小二乘擬合算法獲得精確的Henry函數(shù)表達(dá)式,進(jìn)而有效提高了Zeta電位的計(jì)算精度及重復(fù)性和重現(xiàn)性。

聚苯乙烯顆粒分散體系電泳遷移率及Zeta電位的測(cè)量結(jié)果

      作為一款集合了儀器制造專業(yè)人士智慧的分析儀器,除了上述特點(diǎn)外,OPT-919SZ納米粒度及Zeta電位分析儀還可以與澳譜特科技的多功能自動(dòng)滴定系統(tǒng)相連接,配合強(qiáng)大易用的控制軟件,獲得納米顆粒粒徑和Zeta電位隨pH值、添加劑濃度及溫度變化的趨勢(shì)。軟件還具有一鍵式SOP測(cè)量功能,無(wú)需用戶干預(yù),自動(dòng)調(diào)整散射光、自動(dòng)優(yōu)化光子相關(guān)器參數(shù),以適應(yīng)不同樣品。
      澳譜特科技會(huì)繼續(xù)深耕顆粒表征儀器的開(kāi)發(fā),加大創(chuàng)新力度,研發(fā)出更多品質(zhì)過(guò)硬的產(chǎn)品。相信澳譜特科技在為行業(yè)發(fā)展注入強(qiáng)勁動(dòng)力的同時(shí),公司也將憑借良好的口碑創(chuàng)造屬于自身的輝煌!

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